IZ4 - Kolloquium
Hiermit möchten wir recht herzlich zu folgendem Vortrag im Rahmen des IfP-Kolloquiums einladen:
Band Gap Engineering and Defect Design of Metal Oxides using Molecular Layer Deposition
Mo., 08.05.17, 16:00 Uhr FZH3 Campus Freudenberg
Dr. Roie Yerushalmi
Institute of Chemistry and the Center for Nanosciene and Nanotechnology, The Hebrew University of Jerusalem, Jerusalem 91904, Israel
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