IZ4 - Kolloquium

28.03.2017|10:48 Uhr

Dr. Roie Yerushalmi

Hiermit möchten wir recht herzlich zu folgendem Vortrag im Rahmen des IfP-Kolloquiums einladen:

Band Gap Engineering and Defect Design of Metal Oxides using Molecular Layer Deposition

Mo., 08.05.17, 16:00 Uhr FZH3 Campus Freudenberg

Dr. Roie Yerushalmi

Institute of Chemistry and the Center for Nanosciene and Nanotechnology, The Hebrew University of Jerusalem, Jerusalem 91904, Israel

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